China Placa de Tântalo de Alta Pureza RO522 5400 Fabricantes Fábrica Fornecedores
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RO522/5400 PLACA DE TANTALUM DE HIGHPonto de fusão: 2980 grausMais
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Grau: RO5200, RO5400, RO5252 (TA -2. 5W), RO5255 (Ta -10 w)
Padrão de... -
Anel de aterramento de TantalumPonto de fusão: 2980 grausMais
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Nota: RO5200, RO5400
Especificações: dn 10- dn300
Espessura comum:... -
Anel de tântalo resistente à corrosãoNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão de implementação: ASTM B365 GB/T 26012-2010 -
Ultra-Thin Ta 1 0. 03 Tantalum FoilNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão: ASTM B 708-12 -
Disco de ruptura de tântalo de alta traçãoNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Especificações: {{0}}. 025mm ~ 0,1mm
Resistência... -
Tantalum diafragmaNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Especificações: {{0}}. 025mm ~ 0,1mm
Resistência... -
99,99% de alta pureza Tantalum FoilNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão de implementação: ASTM B 708-12 -
Tubo de tântalo resistente à corrosão para indústria químicaNota: RO5200 RO5400 TAW2.5 Taw7.5Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão de implementação: ASTM B... -
RO5200 Tântalo HasteGrau% 3a RO5200Mais
Derretimento ponto% 3a 2980 grau
Boiling point: 5370 degree
Densidade: 16.6g/cm³
Pureza% 3a Maior que ou igual a 99,95% 25
Implementação... -
Cabeça de unhas resistentes à corrosão químicaNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão de implementação: ASTM B365 GB/T 26012-2010 -
Folha refletiva de tântalo para semicondutorNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Especificações: t {{0}}. 8/1.0/1.2
Resistência à... -
Elemento de aquecimento de evaporação semicondutoresNota: RO5200 RO5400Mais
Ponto de fusão: 2980 graus
Ponto de ebulição: 5370 graus
Densidade: 16,6g/cm³
Pureza: maior ou igual a 99,95%
Padrão de implementação: ASTM B708 GB/T 3629-2006
A experiência de entrega foi perfeita, o produto foi entregue rapidamente e sua bela aparência simplesmente excedeu minhas expectativas.
No início, não tínhamos expectativas por um produto de preço tão baixo, mas acontece que a qualidade do produto do fabricante é excelente e o serviço de logística também é muito bom.
Esses itens são muito econômicos e muito práticos!
Este fornecedor merece ser visto por mais pessoas!
Os produtos deste fornecedor são muito grossos, o design também é muito novo e a embalagem é muito avançada.
Esta compra me fez sentir o processo tecnológico completo desta empresa. Temos muito certeza de que eles realizaram inspeções de qualidade cuidadosas, desde o processamento de matérias -primas até a
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